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  • 光学LCD用超纯水处理设备
  • 文章作者:天津水处理工程师发布日期:2019-02-02 16:12文章来源:天津超纯水设备公司

  光学LCD对水质的要求高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。光学LCD用超纯水处理设备完全满足半导体行业的要求。莱特莱德天津水处理致力于成为时代的水处理企业,专业生产水处理设备、超纯水设备、纯化水设备、纯净水设备等系列水处理设备产品质量。

光学LCD用超纯水处理设备
光学LCD用超纯水处理设备

  光学LCD用超纯水处理设备工艺流程

  1、一级反渗透+混床(出水2---15mΩ.cm)

  原水箱—原水泵—全自动多介质过滤器—全自动活性炭过滤器—全自动软水器→保安过滤器→高压泵—反渗透主机→纯水箱—纯水泵→阴阳离子交换混床→微孔过滤器—储水罐→纯水输送泵→用水点

  2、一级反渗透+EDI系统(出水5---15mΩ.cm)

  原水箱→原水泵→全自动多介质过滤器→全自动活性炭过滤器→全自动软水器→保安过滤器→高压泵→反渗透主机→纯水箱—EDI系统→储水罐→纯水输送泵→用水点

  3、二级反渗透+EDI系统(出水18mΩ.cm)

  原水箱—原水泵→全自动多介质过滤器→全自动活性炭过滤器→全自动软水器→保安过滤器→一级高压泵→级反渗透主机→PH调节→二级级高压泵→二级反渗透→纯水箱→脱气装置→微孔过滤器→EDI系统→抛光混床系统—储水罐→纯水输送泵→用水点

光学LCD用超纯水处理设备
光学LCD用超纯水处理设备

  光学LCD用超纯水处理设备概述

  光学LCD的制造需要大量高品质的超纯水,电子级超纯水是目前纯净水质要求高的水,对出水电阻率要求达到18MΩ.cm。可以说在电子级超纯水制备系统中汇集了当前水处理技术先进的工艺和设备,如超滤,纳滤,微滤,反渗透,膜脱气电去离子(EDI)等,其中EDI装置在整个超纯水制备系统工程中一关键设备,它巧妙的将电渗析和离子交换技术相结合,利用两端电极高压使水,中带电离子移动,并配合离子交换树脂及选择性树脂膜以加速离子移动去除,从而达到水纯化的目的。EDI设施的除盐率可以高达99%以上,如果在EDI之前使用反渗透设备对水进行初步除盐,再经EDI除盐就可以生产出电阻率高达成15M.cm以上的超纯水。

光学LCD用超纯水处理设备
光学LCD用超纯水处理设备

  光学LCD用超纯水处理设备净水基本过程

  1、连续运行,产品水水质稳定。

  2、容易实现全自动控制。

  3、无须用酸碱再生。

  4、不会因再生而停机。

  5、节省了再生用水及再生污水处理设施。

  6、产水率高(可达95%)。

  7、无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施。

  8、光学LCD用超纯水处理设备使用安全可靠,避免工人接触酸碱。