当前位置:首页 > 常见问题 > 天津半导体超纯水设备的工艺流程是什么?
  • 天津半导体超纯水设备的工艺流程是什么?
  • 文章作者:1发布日期:2019-06-24 16:28文章来源:未知

  天津半导体超纯水设备主要用于半导体工业用水。天津半导体超纯水设备结合相关技术可以有效去除原水中的悬浮物、胶体、细菌、金属离子等杂质。输出电阻可达18兆欧以上,完全满足半导体要求。工业需水量。那么,天津半导体超纯水设备的工艺流程是什么?

  天津半导体超纯水设备的工艺

  1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象。

  2、预处理-级反渗透-加药装置(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象。

  3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象。

  4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象。

  天津半导体超纯水设备具有明显的性能优势,能连续稳定地制备优质超纯水,不会因树脂再生而停止运行,超纯水设备结构设计相对封闭,占地面积小,可以为企业节省大量空间。值得大量推广。
  
        相关推荐:都有哪些原因导致天津超纯水设备出水硬度超标

相关新闻