我国电科：我国高能离子注入机核心技能难关得到打破！

时间: 2024-02-21 05:54:11 |   作者; 雷火竞猜官网首页

  据“我国电科”报导，国内高能离子注入机核心技能难关得到打破！由我国电科所属北京烁科中科信设备研制团队自主研制的国内首台高能离子注入机已顺畅进驻国内先进集成电路大生产线。

  作为集成电路芯片制作的要害设备，离子注入机设备的研制难度极大、研制基础薄弱，其使用也非常遍及，不光能够用作大规模集成电路和器材与半导体资料的离子注入，还能用于金属资料外表改性和制膜等方面。

  其间，低能大束流离子注入机被使用于制程逻辑、DRAM、3D存储器和CIS芯片制作中，高能离子注入机则较多使用在功率器材、IGBT、5G射频、CIS、逻辑芯片等器材制备过程中。

  据悉，高能离子注入机是离子注入机中技能难度最大的机型，被认为是离子注入机研制范畴公认的“珠穆朗玛峰”，是我国集成电路制作配备产业链上亟待霸占的要害一环。

  “我国电科”音讯指出，北京烁科中科信设备研制团队完成了中束流、大束流、高能、特种使用及第三代半导体等全谱系离子注入机自主立异开展，大幅缩小了与世界一流水平距离。