中微公司：在3DNAND芯片制作环节公司的等离子体刻蚀设备可应用于64层和128层的量产

时间: 2024-01-19 01:40:25 |   作者; 雷火竞猜官网首页

  同花顺300033）金融研究中心4月24日讯，有投资者向中微公司发问， 公司ccp刻烛设备能应用到存储芯片 3d nand 200层以上吗

  公司答复表明，您好，在3DNAND芯片制作环节，公司的等离子体刻蚀设备可应用于64层和128层的量产，一起公司根据存储器客户的需求正在开发验证新一代设备。谢谢您的重视。

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