等离子去胶机pdf

时间: 2024-01-13 10:19:10 |   作者; 雷火竞猜官网首页

  本实用新型公开了等离子去胶机，涉及等离子去胶设备技术领域，包括机箱、圆片放置单元和气流离子导向单元，机箱前侧底部开口的一侧安装有箱门，所述机箱的顶部穿插设置有供气组件，且机箱内顶部安装有电离组件；圆片放置单元安装在机箱内底部；气流离子导向单元包含有侧架、方框、活动轴、导向板、连接轴、控制杆和导向控制组件，机箱内中部通过侧架固定连接有方框内等距离的设置有导向板，所述导向板的中部前后侧分别通过活动轴与方框活动连接。该等离子去胶机，可以通过导向板可以将电离后的气流摆动着流向圆片表面，导向板中的石英板可

  (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219832561 U (45)授权公告日 2023.10.13 (21)申请号 5.8 (22)申请日 2023.05.31 (73)专利权人 赛奥仪器（承德）有限公司 地址 河北省承德市平泉经济开发区通航路 6号 (72)发明人 刘檑孙建文 (74)专利代理机构 北京深川专利代理事务所 (普通合伙) 16058 专利代理师 陈彬茜 (51)Int.Cl. H01J 37/32 (2006.01) H01L 21/67 (2006.01) B08B 7/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图3页 (54)实用新型名称 等离子去胶机 (57)摘要 本实用新型公开了等离子去胶机，涉及等离 子去胶设备技术领域，包括机箱、圆片放置单元 和气流离子导向单元，机箱前侧底部开口的一侧 安装有箱门，所述机箱的顶部穿插设置有供气组 件，且机箱内顶部安装有电离组件；圆片放置单 元安装在机箱内底部；气流离子导向单元包含有 侧架、方框、活动轴、导向板、连接轴、控制杆和导 向控制组件，机箱内中部通过侧架固定连接有方 框内等距离的设置有导向板，所述导向板的中部 前后侧分别通过活动轴与方框活动连接。该等离 子去胶机，可以通过导向板可以将电离后的气流 摆动着流向圆片表面，导向板中的石英板可以再 U 次消除高能活性粒子，形成左右方向活动的气 1 流，利于将圆片表面去胶产生的粉屑吹掉。 6 5 2 3 8 9 1 2 N C CN 219832561 U 权利要求书 1/1页 1.等离子去胶机，其特征是，包括： 机箱(1)，前侧底部开口的一侧安装有箱门(2)，所述机箱(1)的顶部穿插设置有供气组 件(9)，且机箱(1)内顶部安装有电离组件(6)； 圆片放置单元(5)，安装在机箱(1)内底部； 气流离子导向单元(4)，包含有侧架(41)、方框(42)、活动轴(43)、导向板、连接轴(46)、 控制杆(47)和导向控制组件，机箱(1)内中部通过侧架(41)固定连接有方框(42)内等距离 的设置有导向板，所述导向板的中部前后侧分别通过活动轴(43)与方框(42)活动连接，每 个导向板的顶部前侧分别通过连接轴(46)活动连接控制杆(47)，所述控制杆(47)的一端连 接导向控制组件，导向控制组件安装在机箱(1)的中部内壁。 2.依据权利要求1所述的等离子去胶机，其特征是：所述导向控制组件包含有活动短 杆(48)和电动伸缩杆(49)，所述控制杆(47)的一端通过销轴活动连接活动短杆(48)的一 端，所述活动短杆(48)的另一端通过销轴活动连接电动伸缩杆(49)的伸缩端，电动伸缩杆 (49)的固定端固定在机箱(1)的中部内壁上。 3.依据权利要求1所述的等离子去胶机，其特征是：所述导向板包含有摆动框(44)和 石英板(45)，所述摆动框(44)内镶嵌有石英板(45)。 4.依据权利要求1所述的等离子去胶机，其特征是：所述圆片放置单元(5)包含有滑 轨(51)、滑动架(52)、圆片弧形放置托架(54)和高度调整组件，机箱(1)内底部两侧分别设 置有纵向的滑轨(51)，滑动架(52)的两侧分别与两侧的滑轨(51)滑动连接，所述滑动架 (52)的上侧通过高度调整组件连接有两个相对的圆片弧形放置托架(54)，两个圆片弧形放 置托架(54)的顶部内侧设置有弧形的托槽。 5.依据权利要求4所述的等离子去胶机，其特征是：所述高度调整组件包含有调整竖 架(53)、端块(55)和调整螺杆(56)，所述滑动架(52)的两侧滑槽内分别竖向滑动连接两个 调整竖架(53)，两个调整竖架(53)的顶部分别固定连接两个圆片弧形放置托架(54)的外 侧，两个调整竖架(53)的底端侧面分别固定连接有端块(55)，端块(55)上的螺孔内螺纹连 接有竖向的调整螺杆(56)，调整螺杆(56)的顶端转动连接滑动架(52)的底部。 6.依据权利要求5所述的等离子去胶机，其特征是：还包括隔热架(7)和加热盘(8)， 所述圆片弧形放置托架(54)的下方设置有加热盘(8)，加热盘(8)的两侧分别通过隔热架 (7)连接对应的调整竖架(53)顶端。 7.依据权利要求1所述的等离子去胶机，其特征是：还包括抽线)的中部侧面分别安装有抽线页 等离子去胶机 技术领域 [0001] 本实用新型涉及等离子去胶设备技术领域，具体为等离子去胶机。 背景技术 [0002] 等离子去胶机可用于2到6英寸半导体圆片的单片式打胶，通过产生低压、低温的 等离子体辉光放电，与圆片表明上进行快速化学反应与物理冲击，完成去胶，为了尽最大可能避免电离过 程中产生大量高能活性粒子损伤圆片表面，现存技术中采用两层石英盘通过气相复合消除 高能活性粒子，但是如果电离后的气流速度快仍然是有一些高能活性粒子透过两层石英盘 交错的通孔而抵达圆片表面而损害圆片，去胶过程中产生的粉屑容易留在圆片上。 实用新型内容 [0003] 本实用新型要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供等离子去胶机，可以通过 导向板可以将电离后的气流摆动着流向圆片表面，离子受电场作用向下加速运动，去轰击 圆片放置单元上圆片表面的光刻胶，实现圆片表面的去胶，去胶时伴随有紫色辉光，导向板 中的石英板能再一次消除高能活性粒子，避免一些高能活性粒子逃脱电离组件中石英盘的 消除造成对圆片表面的损坏，通过石英板可以将电离后的气流导向，形成左右方向活动的 气流，利于将圆片表面去胶产生的粉屑吹掉，避免去胶过程中产生的粉屑容易留在圆片上 不容易掉落，可以有效解决背景技术中的问题。 [0004] 为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：等离子去胶机，包括： [0005] 机箱，前侧底部开口的一侧安装有箱门，所述机箱的顶部穿插设置有供气组件，且 机箱内顶部安装有电离组件； [0006] 圆片放置单元，安装在机箱内底部； [0007] 气流离子导向单元，包含有侧架、方框、活动轴、导向板、连接轴、控制杆和导向控 制组件，机箱内中部通过侧架固定连接有方框内等距离的设置有导向板，所述导向板的中 部前后侧分别通过活动轴与方框活动连接，每个导向板的顶部前侧分别通过连接轴活动连 接控制杆，所述控制杆的一端连接导向控制组件，导向控制组件安装在机箱的中部内壁。 [0008] 打开箱门，通过机箱前侧底部开口可以将圆片放置单元拉出机箱，在机箱上放置 圆片，然后将圆片放置单元及圆片推入机箱内，关严箱门，电离组件工作，同时通过供气组 件向电离组件及机箱内供给待电离的气流，电离组件工作产生电离作用形成离子和电子， 然后通过等离子流动到圆片的表面，这些离子氧化圆片上光刻胶的低能量自由基和中性粒 子，完成去胶清洗的目的，导向控制组件带动控制杆左右活动，通过连接轴带动导向板在方 框内左右摆动，可以将含有等离子的气流进行扰流，可以将圆片上去胶过程中形成的粉屑 吹掉。 [0009] 进一步的，所述导向控制组件包含有活动短杆和电动伸缩杆，所述控制杆的一端 通过销轴活动连接活动短杆的一端，所述活动短杆的另一端通过销轴活动连接电动伸缩杆 的伸缩端，电动伸缩杆的固定端固定在机箱的中部内壁上。电动伸缩杆伸缩可以带动活动 3 3 CN 219832561 U 说明书 2/5页 短杆左右往复，通过活动短杆可以带动控制杆左右往复活动，通过活动短杆能解决控制 杆左右活动使高度稍微改变的情况，避免电动伸缩杆与控制杆硬性连接。 [0010] 进一步的，所述导向板包含有摆动框和石英板，所述摆动框内镶嵌有石英板。摆动 框方便固定连接活动轴和连接轴，避免石英板直接与活动轴和连接轴连接造成损失破坏，石英 板除了对气流进行导向外还能更加进一步消除电离过程中产生的高能活性粒子，避免逸出的 高能活性粒子到达圆片上而损圆片的表面。 [0011] 进一步的，所述圆片放置单元包含有滑轨、滑动架、圆片弧形放置托架和高度调整 组件，机箱内底部两侧分别设置有纵向的滑轨，滑动架的两侧分别与两侧的滑轨滑动连接， 所述滑动架的上侧通过高度调整组件连接有两个相对的圆片弧形放置托架，两个圆片弧形 放置托架的顶部内侧设置有弧形的托槽。通过滑轨方便滑动架抽拉至机箱外部，方便向圆 片弧形放置托架上的托槽内放置圆片，高度调整组件能够准确的通过需要调整圆片弧形放置托架 的高度，从而调整去胶时圆片的高度。 [0012] 进一步的，所述高度调整组件包含有调整竖架、端块和调整螺杆，所述滑动架的两 侧滑槽内分别竖向滑动连接两个调整竖架，两个调整竖架的顶部分别固定连接两个圆片弧 形放置托架的外侧，两个调整竖架的底端侧面分别固定连接有端块，端块上的螺孔内螺纹 连接有竖向的调整螺杆，调整螺杆的顶端转动连接滑动架的底部。扭动调整螺杆，通过调整 螺杆与端块的螺纹作用可以带动调整竖架沿着滑槽竖向活动，从而改变圆片弧形放置托架 的高度。 [0013] 进一步的，还包括隔热架和加热盘，所述圆片弧形放置托架的下方设置有加热盘， 加热盘的两侧分别通过隔热架连接对应的调整竖架顶端。隔热架避免加热盘加热时影响调 整竖架的温度，加热盘利于对圆片下方加热，气流受热上升可以快速加热机箱内的空气，利 于去胶。 [0014] 进一步的，还包括抽真空组件和过滤循环组件，机箱的中部侧面分别安装有抽真 空组件和过滤循环组件。抽真空组件可以在去胶前将机箱内抽负压，过滤循环组件在去胶 过程中将机箱1内部去胶过程中产生的有害气体或粉屑进行过滤吸附。 [0015] 与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本等离子去胶机，具有以下好处： [0016] 1、可以通过导向板可以将电离后的气流摆动着流向圆片表面，离子受电场作用向 下加速运动，去轰击圆片放置单元上圆片表面的光刻胶，实现圆片表面的去胶，去胶时伴随 有紫色辉光，导向板中的石英板可以再次消除高能活性粒子，避免一些高能活性粒子逃脱 电离组件中石英盘的消除造成对圆片表面的损坏； [0017] 2、通过石英板可以将电离后的气流导向，形成左右方向活动的气流，利于将圆片 表面去胶产生的粉屑吹掉，避免去胶过程中产生的粉屑容易留在圆片上不容易掉落。 附图说明 [0018] 图1为本实用新型结构示意图； [0019] 图2为本实用新型仰视结构示意图； [0020] 图3为本实用新型局部剖面结构示意图。 [0021] 图中：1机箱、2箱门、3透明窗、4气流离子导向单元、41侧架、42方框、43活动轴、44 摆动框、45石英板、46连接轴、47控制杆、48活动短杆、49电动伸缩杆、5圆片放置单元、51滑 4 4 CN 219832561 U 说明书 3/5页 轨、52滑动架、53调整竖架、54圆片弧形放置托架、55端块、56调整螺杆、6电离组件、61绝缘 架、62射频正极、63负极、64石英盘、7隔热架、8加热盘、9供气组件、10抽线过滤循 环组件。 具体实施方式 [0022] 下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行 清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的 实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下 所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。 [0023] 实施例一，请参阅图1‑3，本实用新型提供技术方案：等离子去胶机，包括机箱1、电 离组件6、圆片放置单元5和气流离子导向单元4； [0024] 机箱1前侧底部开口的一侧安装有箱门2，箱门2上的矩形通槽内镶嵌有透明窗3， 方便观察内部情况，机箱1的顶部穿插设置有供气组件9，且机箱1内顶部安装有电离组件6； [0025] 电离组件6包含有石英腔、绝缘架61、射频正极62、负极63、石英盘64，机箱1内顶部 设置有石英腔，供气组件9的底端延伸至石英腔内顶部，石英腔内设置有两个上下分布的绝 缘架61，上侧的绝缘架61内安装有射频正极62，下侧的绝缘架61内安装有负极63，石英腔的 底部设置有两个上下分布的石英盘64，两个石英盘64上设置有交错的通气孔； [0026] 射频正极62和负极63通过外部的射频电源供电，射频正极62和负极63对供气组件 9供给的气流电离成离子和电子，石英腔以及石英盘64发生气相复合对高能活性粒子消除； [0027] 圆片放置单元5安装在机箱1内底部； [0028] 气流离子导向单元4包含有侧架41、方框42、活动轴43、导向板、连接轴46、控制杆 47和导向控制组件，机箱1内中部通过侧架41固定连接有方框42内等距离的设置有导向板， 导向板的中部前后侧分别通过活动轴43与方框42活动连接，每个导向板的顶部前侧分别通 过连接轴46活动连接控制杆47，控制杆47的一端连接导向控制组件，导向控制组件安装在 机箱1的中部内壁。 [0029] 导向板包含有摆动框44和石英板45，摆动框44内镶嵌有石英板45。摆动框44方便 固定连接活动轴43和连接轴46，避免石英板45直接与活动轴43和连接轴46连接造成损坏， 石英板45除了对气流进行导向外还可以进一步消除电离过程中产生的高能活性粒子，避免 逸出的高能活性粒子到达圆片上而损圆片的表面。 [0030] 还包括隔热架7和加热盘8，圆片弧形放置托架54的下方设置有加热盘8，加热盘8 的两侧分别通过隔热架7连接对应的调整竖架53顶端。隔热架7避免加热盘8加热时影响调 整竖架53的温度，加热盘8利于对圆片下方加热，气流受热上升可以快速加热机箱1内的空 气，利于去胶。 [0031] 还包括抽线的中部侧面分别安装有抽线。抽线内抽负压，过滤循环组件11在 去胶过程中将机箱1内部去胶过程中产生的有害气体或粉屑进行过滤吸附。 [0032] 使用时，打开箱门2，通过机箱1前侧底部开口可以将圆片放置单元5拉出机箱1； [0033] 在机箱1上放置圆片，然后将圆片放置单元5及圆片推入机箱1内，关严箱门2； [0034] 电离组件6工作，同时通过供气组件9向电离组件6及机箱1内供给待电离的气流， 5 5 CN 219832561 U 说明书 4/5页 电离组件6工作产生电离作用形成离子和电子，然后通过等离子流动到圆片的表面； [0035] 这些离子氧化圆片上光刻胶的低能量自由基和中性粒子，完成去胶清洗的目的； [0036] 导向控制组件带动控制杆47左右活动，通过连接轴46带动导向板在方框42内左右 摆动，可以将含有等离子的气流进行扰流，可以将圆片上去胶过程中形成的粉屑吹掉。 [0037] 实施例二，请参阅图1‑3，本实用新型提供技术方案：等离子去胶机，本实施例是对 实施例一的进一步解释说明； [0038] 导向控制组件包含有活动短杆48和电动伸缩杆49，控制杆47的一端通过销轴活动 连接活动短杆48的一端，活动短杆48的另一端通过销轴活动连接电动伸缩杆49的伸缩端， 电动伸缩杆49的固定端固定在机箱1的中部内壁上。 [0039] 使用时，电动伸缩杆49伸缩可以带动活动短杆48左右往复，通过活动短杆48可以 带动控制杆47左右往复活动，通过活动短杆48可以解决控制杆47左右活动使高度稍微改变 的情况，避免电动伸缩杆49与控制杆47硬性连接。 [0040] 实施例三，请参阅图1‑3，本实用新型提供技术方案：等离子去胶机，本实施例是对 实施例二的进一步解释说明； [0041] 圆片放置单元5包含有滑轨51、滑动架52、圆片弧形放置托架54和高度调整组件， 机箱1内底部两侧分别设置有纵向的滑轨51，滑动架52的两侧分别与两侧的滑轨51滑动连 接，滑动架52的上侧通过高度调整组件连接有两个相对的圆片弧形放置托架54，两个圆片 弧形放置托架54的顶部内侧设置有弧形的托槽。 [0042] 使用时，通过滑轨51方便滑动架52抽拉至机箱1外部，方便向圆片弧形放置托架54 上的托槽内放置圆片，高度调整组件可以根据自身的需求调整圆片弧形放置托架54的高度，从而 调整去胶时圆片的高度。 [0043] 高度调整组件包含有调整竖架53、端块55和调整螺杆56，滑动架52的两侧滑槽内 分别竖向滑动连接两个调整竖架53，两个调整竖架53的顶部分别固定连接两个圆片弧形放 置托架54的外侧，两个调整竖架53的底端侧面分别固定连接有端块55，端块55上的螺孔内 螺纹连接有竖向的调整螺杆56，调整螺杆56的顶端转动连接滑动架52的底部。 [0044] 使用时，扭动调整螺杆56，通过调整螺杆56与端块55的螺纹作用可以带动调整竖 架53沿着滑槽竖向活动，从而改变圆片弧形放置托架54的高度。 [0045] 值得注意的是，以上实施例中所公开的加热盘8、抽线均由外部PLC控制器供电工作，外部PLC控制器控制加热盘8、抽线工作采用现存技术中常用的方法，且加热盘8、抽线的具体结构均采用现有技术，在次不再赘述。 [0046] 需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实 体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存 在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖 非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要 素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备 所固有的要素。 [0047] 尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言， 能够理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修 6 6 CN 219832561 U 说明书 5/5页 改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。 7 7 CN 219832561 U 说明书附图 1/3页 图1 8 8 CN 219832561 U 说明书附图 2/3页 图2 9 9 CN 219832561 U 说明书附图 3/3页 图3 10 10

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