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中微公司:刻蚀设备7nm5nm逻辑、128层NAND技术突破

时间: 2024-01-21 04:58:35 |   作者; 雷火竞猜官网首页

  公司发布2019年年度报告,2019年公司实现营业收入19.47亿元,同比增长18.77%;实现归属上市公司股东净利润1.89亿元,同比增长107.51%。

  2019年公司营收19.47亿元,同比增长18.77元;其中专用设备收入15.87亿元,同比增长13.55%;公司依托在刻蚀设备、MOCVD设备及别的设备领域领先的技术优势以及良好客户基础,在逻辑芯片、3DNAND、DRAM等领域均有较好的业务拓展,业务规模逐步扩大,出售的收益一直增长。公司净利润增长大多数来源于政府对于前道刻蚀设备的高强度支持,政府救助大幅度的增加,推动2019年度公司归属于上市公司股东净利润0.59亿元,同比增长334.02%。

  2019年公司研发费用4.25亿元(含资本化研发费用),同比增长50.74%,占据营业收入的比重为21.81%;公司积累了深厚的技术储备和丰富的研发经验,这一优势保证了公司产品和服务的慢慢的提升。企业具有多项自主知识产权和核心技术,截至2019年12月31日,公司已申请1,467项专利,其中发明专利1,297项;已获授权专利1,015项,其中发明专利859项;公司加大研发投入可望加速先进制程设备的发展进度,包括公司在逻辑芯片7纳米、5纳米制程、存储芯片3DNAND128层制程、DRAM1X制程等主要集成电路领域应用的技术研发。

  公司电容式(CCP)刻蚀设备已用于台积电7nm/5nm逻辑制程,同时可望进入长江存储128层3DNAND存储产线)逻辑芯片领域:公司刻蚀设备已运用在国际知名客户65纳米到7纳米的芯片生产线纳米刻蚀设备用于若干关键步骤的加工,并已获得行业领先客户的批量订单。公司目前正在配合客户的真实需求,开发新一代刻蚀设备和包括更先进大马士革在内的刻蚀工艺,能够涵盖5纳米以下刻蚀需求和更多不同关键应用的设备。(2)存储芯片领域:公司刻蚀设备在3DNAND芯片制造环节,公司的电容性等离子体刻蚀设备可应用于64层的量产,同时公司依据存储器厂商的需求正在开发新一代能够涵盖128层关键刻蚀应用以及相对应的极高深宽比的刻蚀设备和工艺;同时,公司电感式(ICP)刻蚀设备正在加速技术提升:公司的电感性等离子刻蚀设备已经在多个逻辑芯片、存储芯片厂商的生产线上量产,按照每个客户的技术发展需求,正在进行下一代产品的研发技术,以满足7纳米以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM芯片和128层以上的3DNAND芯片等产品的ICP刻蚀需求,并进行高产出的ICP刻蚀设备的研发。

  根据疫情对宏观环境和景气造成的冲击和公司2019年度经营情况,我们调整2020-2021盈利预测,我们将2020-2021年公司营业收入预测从29.20亿元/43.41亿元调整为24.19亿元/32.98亿元;对应公司获得政府支持力度加大,加上公司设备持续往先进制程升级,毛利可望同步提速,将同时期公司归母净利润从2.04亿元/2.92亿元调整为2.87亿元/3.98亿元。考虑到2022年后公司存储芯片布局优势将越发显著,且公司竞争地位稳固;我们预测2022年公司营业收入为44.60亿元,归母纯利润是5.44亿元。维持“买入”评级。

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