中微公司首台8英寸CCP刻蚀机PrimoAD-RIE200顺畅付运

  集微网音讯，6月15日，中微公司首台 8 英寸甚高频去耦合反响离子（CCP）刻蚀设备 Primo AD-RIE 200 顺畅付运客户出产线。

  据悉，Primo AD-RIE 200 是中微公司自主研制的新一代 8 英寸甚高频去耦合反响离子（CCP）刻蚀设备。根据已被业界广泛认可的 12 英寸 CCP 刻蚀设备的老练工艺与特性，Primo AD-RIE 200 在技术创新和出产功率方面都有了逐渐进步，可以很好的满意不同客户 8 英寸晶圆的加工需求。

  为进步出产功率，Primo AD-RIE 200 刻蚀设备可灵敏装备多达三个双反响台反响腔（即六个反响台）。此外，Primo AD-RIE 200 供给了可晋级至 12 英寸刻蚀设备体系的灵敏解决方案，以完成用户出产线未来或许扩产的需求。

  据了解，中微公司Primo nanova®产品已成功进入海内外十余家客户的晶圆出产线，在抢先的逻辑芯片、DRAM 和3D NAND厂商的出产线上完成大规模量产。根据公司业绩阐明会资料，ICP刻蚀商场规模76亿美元，而CCP刻蚀商场规模仅为48亿美元。

  此前，中微公司第100腔Primo nanova®刻蚀设备的顺畅交给，是公司ICP刻蚀产品事务开展新的里程碑，标志着刻蚀产品开展迈入新的阶段。（校正/Arden）

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