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多功能磁控溅射镀膜机技能计划

多功能磁控溅射镀膜机技能计划

时间: 2024-03-17 02:59:49 |   作者; 雷火竞猜官网app下载

    是用磁控溅射的办法,制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等;适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜;可镀制磁性资料和非磁性资料。

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  是用磁控溅射的办法,制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等;适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜;可镀制磁性资料和非磁性资料。

  秉承设备为工艺完成供给完成手法的理念,咱们做了如下规划和工程完成,实践运转作用杰出,为用户的用工艺完成供给了精/准/的工艺设备计划。

  -靶材和靶面直接做到面触摸是很难的,假如做不到面触摸,触摸电阻将增大,导致离化电场的幅值不行(触摸电阻增大,触摸面的电场分压增大),导致镀膜作用欠好;电阻增大导致靶材发热升温,下降镀膜质量。

  占地面积小,尺度约为:长1100mm×宽780mm(规范办公室门是800mm宽)(传统设备大约为2200mm×1000mm),相同面积的工作场地,能够放两台设备。

  选用铠装加热丝,因为通电加热的金属丝不暴露在真空室内,所以高温加热过程中不开释杂质物质,保/证薄膜的纯洁度。铠装加热丝放入均温器里,保/证温常的均匀,然后再对基片加热。

  真空室表里,悉数电化学抛光,完/全去除外表微观毛刺森林(在显微镜下可见),没有微观藏污纳垢的当地,腔体内外表积削减一倍以上,镀膜更纯洁,真空度更高,抽速更快。

  2、磁控溅射靶数量及类型:1 ~ 6 靶,圆形平面靶、矩形靶3、靶的装置的当地:由下向上、由上向下、斜向、侧向装置

  -基片加热器温度:依照每个用户供给要求配备,温度可用电脑编程操控,可控可调。

  -基片架公转速度 :2 ~100 转 / 分钟,可控可调;基片自转速度:2 ~20 转 / 分钟。

  -Φ2 ~Φ3 英寸平面圆形靶 2 ~ 3 支,配气动靶控板,靶可摆头调视点。

  鹏城半导体技能(深圳)有限公司(简称:鹏城半导体),由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经历的工程师团队一起建议创立。公司立足于技能沿与商场沿的交叉点,寻求创/新与可持续发展,处理工业的痛点和国产化难题,争夺工业链的自主可控。

  公司中心事务是微纳技能与精细制作,详细运用域包含半导体资料、半导体工艺与半导体配备的研制规划和出产制作。

  公司人才团队知识结构完好,有以哈工大教授和博士为中心的高水平资料研讨和工艺研讨团队;还有来自工业界的高配备规划师团队,他们具有20多年的半导体资料研讨、外延技能讨论研讨与半导体薄膜制备成套配备规划、出产制作的经历。

  公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具有的半导体研制设备渠道和检测设备渠道,能够在高起点展开科研工作。公司总部在深圳市,具有半导体配备的研制、出产、调试以及半导体资料与器材的中试、出产、出售的才能。

  直流溅射电源、RF射频溅射电源、高精度热蒸腾电源、高能直流脉冲电源(中频可调脉宽)

  团队部分成绩散布完/全/自主规划制作的分子束外延(MBE)设备,包含自主规划制作的MBE超高真空外延成长室、工艺操控办理体系与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪(反射高能电子衍射仪)、直线型电子枪、膜厚仪(可计量外延成长的分子层数)、射频源等中心部件。线年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入到正常的运用中,至仍在正常运用。

  规划制作磁控溅射与等离子体增强化学气相堆积法PECVD技能联合体系,运用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。运用单位中科院电工所。

  规划制作了金刚石薄膜制备设备,运用于金刚石薄膜资料的研讨与中试出产设备。现运用单位中科院金属研讨所。

  规划制作了全自动磁控溅射设备,可加水平磁场和笔直磁场,自行规划的真空机械手传递基片。运用于高密度磁记录资料与器材的研讨和中试。现运用单位国家光电实验室。

  规划制作了OLED有机半导体发光资料及器材的研讨和中试成套配备。现运用单位香港城市大学资料实验室。

  规划制作了MOCVD及合金退火炉,用于GaN和ZnO的外延成长,完成LED无机半导体发光资料与器材的研讨和中试。现运用单位南昌大学国家硅基LED工程技能研讨中心。

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  姐姐画画弟弟在旁边一向捣乱,把姐姐惹哭 姐姐气的把弟弟“扔出”门外,姐姐气成这样硬是没舍得打弟弟。