国产中微传来喜讯5nm蚀刻机来了台积电已经过验证

  众所周知，半导体工艺是一项集大成的高精密科技，制成越高工艺也就越高，从65nm到32nm再到现在的10nm，由于制成难度问题筛选掉了许多半导体企业，还在为更高制成研制的半导体企业也寥寥无几了。

  近来，国产中微传来喜讯，旗下5nm等离子体蚀刻机经过了台积电的验证，未来台积电出产5nm制成将会用到由中微供给的蚀刻机，该蚀刻机由国产中微彻底自主研制，可喜可贺。

  中微在半导体职业算是小有名气了，该公司有多位留美归国博士所创建，成立于2004年11月，总投资5亿元，关于此次成功研制出5nm蚀刻机，中微半导体CEO尹志尧表明：在米粒上刻字的微雕技艺上，一般能刻200个字已经是极限，而咱们的等离子刻蚀机在芯片上的加工工艺，相当于能够在米粒上刻10亿个字的水平。

  不过必需要分外留意的是，中微搞定了5nm蚀刻机并不意味着台积电就能够直接用来出产5nm制成了，由于蚀刻机仅仅许多工艺中的一个环节罢了，而最重要的光刻机，台积电依然需要从荷兰ASML进口。

  所以说，我国半导体职业和国际大厂之间的距离仍是很大的，尤其是最重要的光刻机，国内做光刻机最好的是上海微电子，但惋惜微电子也仅能出产90nm，但令咱们欣喜的是，国内有许多像中微这样的半导体企业在不断尽力，距离也在不断缩小。

  关于像中微这样的企业咱们该给予鼓舞和支撑，彻底的自主研制，不选用任何架构，期望中微再接再厉，能够在半导体职业占据一席之地。