中微半导体自主研发的5纳米等离子体刻蚀机获台积电验证

  在台积电宣告下一年将进行5纳米制程试产、估计2020年量产的一起，国产设备亦传来好消息。日前上观新闻报导，中微自主研发的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，功能优秀，将用于全球首条5纳米制程出产线。

  据了解，在晶圆制作很多环节中，薄膜堆积、光刻和刻蚀是三个中心环节，三种设备算计可占晶圆制作出产线%，其间刻蚀技能凹凸直接决议了芯片制程的巨细，并且在本钱上仅次于光刻。而5纳米相当于头发丝直径（约为0.1毫米）的二万分之一，方寸间近乎极限的操刁难刻蚀机的控制精度提出超高要求。

  尽管我国集成电路工业在设备范畴全体落后，但刻蚀机方面已在世界获得一席之地，中微半导体成果尤为杰出。

  中微半导体是我国大陆名列前茅的集成电路设备厂商，2004年由尹志尧博士与杜志游博士、倪图强博士、麦仕义博士等40多位半导体设备专家兴办，首要深耕集成刻蚀机范畴，研发出我国大陆榜首台电介质刻蚀机。

  现在，中微半导体的介质刻蚀设备、硅通孔刻蚀设备、MOCVD设备等均已成功进入海内外重要客户供给系统。到2017年末，已有620多个中微半导体出产的刻蚀反响台运行在海内外39条先进出产线上。

  在现在全球可量产的最先进晶圆制作7纳米出产线上，中微半导体是被验证合格、完成出售的全球五大刻蚀设备供给商之一，与泛林、使用资料、东京电子、日立4家美日企业为7纳米芯片出产线供给刻蚀机。

  作为台积电长时间安稳的设备供给商，据悉中微半导体在台积电量产28纳米制程时两者就已开端协作并一向连续至现在，这次5纳米出产线将再次选用中微半导体的刻蚀设备，足见台积电对中微半导体技能的认可，可谓突破了“卡脖子”技能，让国产刻蚀机跻身世界榜首队伍。

  中微半导体首席专家、副总裁倪图强博士向媒体表明，刻蚀机曾是一些发达国家的出口控制产品，但近年来已在出口控制名单上消失，这说明假如我国突破了“卡脖子”技能，出口约束就会不复存在。

  现在看来，台积电将于下一年首先进入5纳米制程，中微半导体5纳米刻蚀机现已经过验证，估计可获得比7纳米出产线更大的商场占有率。多个方面数据显现，第三季度我国大陆半导体设备出售额初次逾越韩国，估计下一年将成为全世界最大半导体设备商场，中微半导体也有望迎来更大的开展。

  但全体而言，大陆刻蚀设备国产化率仍十分低，存在巨大的生长空间，关于设备厂商来说，“革新没有成功，同志仍需尽力”。

  进程会重复进行屡次。2017年3月11日，据CCTV2财经频道节目的报导，

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