【NAURA CCP GO】推动半导体产业高水平发展北方华创发布国产12英寸双大马士革CCP刻蚀机

  近日，北方华创002371）正式对外发布新品——12英寸电容耦合等离子体介质刻蚀机Accura LX，该机台主要覆盖逻辑领域多个技术节点中以AIO (双大马士革刻蚀工艺)、Contact (接触孔)为代表的关键介质刻蚀制程，并可扩展到存储领域的CMOS (互补金属氧化物半导体)相关制程，适用于Low-K（低介电常数）介质及常规介质材料的刻蚀工艺。

  刻蚀机作为半导体制造产业链中的关键技术装备，其发展水平直接影响着集成电路的微细化程度、性能提升与良率控制，是推动半导体产业实现高水平发展的核心驱动力。随着国内逻辑芯片产能扩充，业内对12英寸关键制程介质刻蚀机的需求量增加，同时国内存储芯片技术慢慢的提升及产能持续扩充，也将带动相当数量的CMOS关键制程介质刻蚀机需求。

  为推动半导体产业高水平质量的发展，北方华创组建专业开发团队开发面向关键制程的12英寸介质刻蚀机Accura LX，其工艺性能已优于当前行业指标：通过Continue plasma (连续等离子体)设定及传送流程的优化，可在保证产品良率的同时实现更高产能；通过Shower head (进气硅电极) 高密度开孔率设计，可实现优异的产品均匀性及降低设备Fatal arcing（致命性打火）风险；此外，机台搭配多种形式的射频脉冲功能，实现了对Mask (掩膜)及Stop layer (停止层)的高选择比，并减少器件损伤；采用的多区气源流量控制及温度调节设计，可实现微区域的精准化调节，实现用户定制化需求。Accura LX设备优异的性能已得到多个客户的青睐，目前已完成多项工艺验证。

  Accura LX设备作为北方华创推出的12英寸双大马士革CCP（电容耦合等离子体）介质刻蚀产品，为北方华创开拓了一个全新的商品市场领域，能够与现有的12英寸硅、金属刻蚀机形成完整的刻蚀工艺解决方案。同时，Accura LX所搭建的12英寸CCP刻蚀机硬件架构和技术平台，能够适用于存储、CIS (互补金属氧化物半导体图像传感器)、Power(功率半导体)等多个领域，应用前景广阔。

  未来，北方华创将依托深厚的技术积累和研发能力，持续深耕介质刻蚀领域设备市场，不停地改进革新和优化介质刻蚀设备性能，推动集成电路制造的精度、良率和产能提升，进而满足新一代信息技术产品对高性能芯片的迫切需求，推动产业进步，创造无限可能。

  看向电动化、智能化！新能源汽车产业还将怎么样发展？车界大咖齐聚钓鱼台共话行业未来

  北京朝阳警方：已对“中植系”所属财富公司高管等主要涉案嫌疑犯依法采取刑事强制措施

  已有312家主力机构披露2023-12-31报告期持股数据，持仓量总计6879.74万股，占流通A股13.02%

  近期的平均成本为286.06元。该股资金方面呈流出状态，投资者请谨慎投资。该公司运营状况良好，多数机构觉得该股长期投资价值较高。

  投资者关系关于同花顺软件下载法律声明运营许可联系我们友情链接招聘英才使用者真实的体验计划

  不良信息举报电话举报邮箱：增值电信业务经营许可证：B2-20090237